МОСКВА, 23 января. /ИТАР-ТАСС/. К концу 2012 года в Национальном исследовательском центре "Курчатовский институт" планируется ввести в строй оборудование, позволяющее создавать электронные микрочипы размером в десять нанометров. Об этом сообщил сегодня корр.ИТАР-ТАСС директор отделения наномикросистемных и гибридных технологий Курчатовского института Алексей Марченков.
"С помощью новой техники для электронно-лучевой литографии к концу года появится возможность создать прототипы устройств размером в десять нанометров /нм/, - сказал он. - У нас всё готово, зона готова, вибрация измерена".
Речь идёт о прототипе потому, что "серийное производство – просто не наше дело", подчеркнул учёный. Курчатовский институт будет готов передать эти технологии в промышленность после отработки технологического процесса изготовления уникальных наночипов.
В настоящий момент ведущие мировые электронные корпорации, в частности Intel или AMD, производят чипы размерами в 32 - 45 нм. Летом прошлого года Intel объявила, что менее чем через год будет готова массово выпускать процессоры с самым малым по длине или ширине элементом в 22 нм. Однако в реальности этот план пока преследуют неудачи.
Под электронной литографией понимается метод "печати" на атомарном уровне, когда электронный пучок сканирует поверхность, повторяя шаблон, заложенный в управляющий компьютер. Теоретически такой способ позволяет достигать разрешения в 1 нм благодаря более короткой длине волны электронов по сравнению со светом.
"Литография - это нанесение рисунков, нанесение металлов, нанесение диэлектриков, травление, осаждение и так далее, - пояснил Алексей Марченков. – Сегодня с помощью такого метода делаются устройства размером в 65 нанометров. То, что собрано здесь, это набор оборудования, которое позволяет делать устройства очень разного типа на основе разнородных материалов. К концу года, надеюсь, мы сделаем ещё шаг вперёд в разработке таких наноустройств".