На микрофотографии показано изображение локального дефекта в покрытии CrAlSiB, вызванного происходящими при высокотемпературном окислительном отжиге фазовыми превращениями (кристаллизация аморфной составляющей), диффузионными процессами, а также разницей в коэффициентах термического расширения материала покрытия и основы из монокристаллического кремния КЭФ-4.5 (100).
Аморфное покрытие CrAlSiB толщиной 1,5 мкм было нанесено с помощью магнетронного распыления многофазной керамической мишени CrAlSiB, изготовленной методом самораспространяющегося высокотемпературного синтеза (CВС). Последующий отжиг покрытия проводился в муфельной печи на воздухе при температуре 1100°С и изотермической выдержке 1 ч. Изображение излома покрытия после высокотемпературной обработки получено с использованием сканирующего электронного микроскопа XL30 S FEG (PHILIPS) при ускоряющем напряжении 5 кВ. На микрофотографии заметно формирование плотной пленки на основе оксида хрома толщиной 170 нм, имеющей хорошую адгезию к покрытию и защищающей покрытие от окисления.
Эти покрытия и процессы, происходящие в них при высокотемпературном отжиге, описаны в статьях:
- Ph.V. Kiryukhantsev-Korneev, J.F. Pierson, K.A. Kuptsov, D.V. Shtansky. Hard Cr–Al–Si–B–(N) coatings deposited by reactive and non-reactive magnetron sputtering of CrAlSiB target. Applied Surface Science
Ph. V. Kiryukhantsev-Korneev, J. F. Pierson, J. Ph. Bauer, E. A. Levashov, D. V. Shtansky. Hard Cr–Al–Si–B–(N) Coatings with Oxidation Resistance up to 1200°C. Glass Physics and Chemistry.
Смотрите другие работы конкурса «Бесконечная наука» здесь.
Аморфное покрытие CrAlSiB толщиной 1,5 мкм было нанесено с помощью магнетронного распыления многофазной керамической мишени CrAlSiB, изготовленной методом самораспространяющегося высокотемпературного синтеза (CВС). Последующий отжиг покрытия проводился в муфельной печи на воздухе при температуре 1100°С и изотермической выдержке 1 ч. Изображение излома покрытия после высокотемпературной обработки получено с использованием сканирующего электронного микроскопа XL30 S FEG (PHILIPS) при ускоряющем напряжении 5 кВ. На микрофотографии заметно формирование плотной пленки на основе оксида хрома толщиной 170 нм, имеющей хорошую адгезию к покрытию и защищающей покрытие от окисления.
Эти покрытия и процессы, происходящие в них при высокотемпературном отжиге, описаны в статьях:
- Ph.V. Kiryukhantsev-Korneev, J.F. Pierson, K.A. Kuptsov, D.V. Shtansky. Hard Cr–Al–Si–B–(N) coatings deposited by reactive and non-reactive magnetron sputtering of CrAlSiB target. Applied Surface Science
Ph. V. Kiryukhantsev-Korneev, J. F. Pierson, J. Ph. Bauer, E. A. Levashov, D. V. Shtansky. Hard Cr–Al–Si–B–(N) Coatings with Oxidation Resistance up to 1200°C. Glass Physics and Chemistry.
Смотрите другие работы конкурса «Бесконечная наука» здесь.
Александра Борисова