В НовГУ модернизировали технологию вакуумного напыления деталей микроэлектроники

ВЕЛИКИЙ НОВГОРОД, 11 августа. /ТАСС/. Ученые Новгородского государственного университета им. Ярослава Мудрого (НовГУ) модернизировали технологию вакуумного напыления для производства деталей микро- и наноэлектроники. В рамках проекта для регионального предприятия они усовершенствовали работу установки, решив ключевую проблему неравномерного нанесения слоев, что приводило к браку, сообщили ТАСС в пресс-службе вуза.

"Ученые Новгородского университета реализовали проект для одного из региональных предприятий города, модернизировали работу его оборудования, сэкономив до 50 млн [рублей] завода-производителя. И решили проблему неравномерного напыления слоев при серийном производстве деталей для микро- и наноэлектроники. Установка УВН 71-ПЗ наносит тонкие резистивные или металлические слои на подложку изделий для микроэлектроники и наноэлектроники. Проблема работы данной машины заключалась в том, что эти слои наносились неравномерно, что приводило к браку готовых изделий", - сообщили в вузе.

Чтобы модернизировать эту установку, необходимо было порядка 15 млн рублей, а заменить на новое - 50 млн. В НовГУ нашли более экономически выгодный способ повысить качество наносимого материала и создали новый "образ" для установки - разработали заслонку с отверстием специальной формы, которая предотвращает попадание излишков материала на подложку и может быть изготовлена на мощностях самого предприятия.

"Чтобы объяснить проще, как решает проблему разработка, проведу аналогию. Представьте, что вам нужно украсить кекс сахарной пудрой в виде специального рисунка. Пудра при этом содержит некие инородные частички, примеси, которые ухудшают вкус изделия. Поэтому вы просеиваете ее через сито и посыпаете ею кекс. Однако вы замечаете, что на некоторых участках мало пудры, а на некоторых много, из-за чего качество рисунка страдает. И чтобы сделать его более равномерным, вы используете трафарет. Так и в нашем случае. "Кексом" выступает подложка или полупроводниковая пластина будущего изделия, например, резистора. В качестве "пудры с примесями" - резистивный материал, обладающий высоким электросопротивлением. В роли "сита" - магнетрон", - пояснил один из соавторов проекта Дмитрий Корцов, добавив, что обзор разработки удалось сделать при грантовой поддержке Минобрнауки России в рамках "Десятилетия науки и технологий".

Другим важным преимуществом данного решения стало сохранение целостности конструкции оборудования. Установка такой заслонки не требует демонтажа УВН 71-ПЗ. Она надевается на распылитель без разбора станка. Как отметили авторы проекта, данная разработка может быть полезна всем предприятиям, которые сталкиваются с подобной проблемой в установках с аналогичной конструкцией.